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超高壓UV燈,紫外線線波長之間已經開發(fā)特別以允許有效地使用*佳的3線光刻光源(436納米這一·405納米·365納米)下,高亮度具有穩(wěn)定性輻照度長它是一個光源壽命。臨近電弧尺寸上非常點光源,它是容易集中和在光學系統(tǒng)中的光的擴散,能夠得到均勻照度分布。上半導體,液晶和濾色器·PDP,用于在印刷電路板電路燒毀等,性電路和模式烘焙照明需求的上升,小尺寸(100瓦特類)-超級到大(35千瓦類),相對于在寬范圍性陣容