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產(chǎn)品特點(diǎn): 適用范圍 液晶顯示器件、觸摸屏、半導(dǎo)體硅芯片、集成電路、高精度印制電路板、光學(xué)器件、石英晶體、密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料 主要材料:ITO玻璃、光學(xué)玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅芯片和帶有氧化膜的金屬等進(jìn)行精密清洗處理??梢匀コ酃福河袡C(jī)性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹(shù)脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤(rùn)滑油、殘余的光刻膠等 使用紫外線清洗時(shí)要注意以下幾個(gè)方面: (1) 污垢中的無(wú)極成分或處理后的灰分會(huì)殘留在物體表面,因此需要采用相應(yīng)的辦法進(jìn)一步**,如加裝真空除塵或與超聲波干洗配套使用。 (2)處理時(shí),當(dāng)清洗對(duì)象表面與照射光源距離稍遠(yuǎn)時(shí),產(chǎn)生的臭氧會(huì)自動(dòng)分解失去作用,一定要注意清洗表面與光源的距離,也就是注意平臺(tái)或傳送帶上工件的高度或厚度。 (3)這種處理方法要求紫外線能透過(guò)清洗對(duì)象表面,對(duì)有立體結(jié)構(gòu)的清洗對(duì)象不太適合,只能清洗表面結(jié)構(gòu)的物體。 (4)由于需防止臭氧擴(kuò)散對(duì)人體造成損害,需要在封閉裝置中進(jìn)行清洗。 (5)由于臭氧是通過(guò)氧化反應(yīng)去除污垢的,所以容易被氧化的表面不能用這種方法處理。 產(chǎn)品描述: 采用110瓦直管光清洗燈 12燈設(shè)計(jì)。
產(chǎn)品特點(diǎn): 適用范圍 液晶顯示器件、觸摸屏、半導(dǎo)體硅芯片、集成電路、高精度印制電路板、光學(xué)器件、石英晶體、密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料 主要材料:ITO玻璃、光學(xué)玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅芯片和帶有氧化膜的金屬等進(jìn)行精密清洗處理??梢匀コ酃福河袡C(jī)性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹(shù)脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤(rùn)滑油、殘余的光刻膠等 使用紫外線清洗時(shí)要注意以下幾個(gè)方面: (1) 污垢中的無(wú)極成分或處理后的灰分會(huì)殘留在物體表面,因此需要采用相應(yīng)的辦法進(jìn)一步**,如加裝真空除塵或與超聲波干洗配套使用。 (2)處理時(shí),當(dāng)清洗對(duì)象表面與照射光源距離稍遠(yuǎn)時(shí),產(chǎn)生的臭氧會(huì)自動(dòng)分解失去作用,一定要注意清洗表面與光源的距離,也就是注意平臺(tái)或傳送帶上工件的高度或厚度。 (3)這種處理方法要求紫外線能透過(guò)清洗對(duì)象表面,對(duì)有立體結(jié)構(gòu)的清洗對(duì)象不太適合,只能清洗表面結(jié)構(gòu)的物體。 (4)由于需防止臭氧擴(kuò)散對(duì)人體造成損害,需要在封閉裝置中進(jìn)行清洗。 (5)由于臭氧是通過(guò)氧化反應(yīng)去除污垢的,所以容易被氧化的表面不能用這種方法處理。
適用范圍
液晶顯示器件、觸摸屏、半導(dǎo)體硅芯片、集成電路、高精度印制電路板、光學(xué)器件、石英晶體、密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料
主要材料:ITO玻璃、光學(xué)玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅芯片和帶有氧化膜的金屬等進(jìn)行精密清洗處理??梢匀コ酃福河袡C(jī)性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹(shù)脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤(rùn)滑油、殘余的光刻膠等
使用紫外線清洗時(shí)要注意以下幾個(gè)方面:
(1) 污垢中的無(wú)極成分或處理后的灰分會(huì)殘留在物體表面,因此需要采用相應(yīng)的辦法進(jìn)一步**,如加裝真空除塵或與超聲波干洗配套使用。
(2)處理時(shí),當(dāng)清洗對(duì)象表面與照射光源距離稍遠(yuǎn)時(shí),產(chǎn)生的臭氧會(huì)自動(dòng)分解失去作用,一定要注意清洗表面與光源的距離,也就是注意平臺(tái)或傳送帶上工件的高度或厚度。
(3)這種處理方法要求紫外線能透過(guò)清洗對(duì)象表面,對(duì)有立體結(jié)構(gòu)的清洗對(duì)象不太適合,只能清洗表面結(jié)構(gòu)的物體。
(4)由于需防止臭氧擴(kuò)散對(duì)人體造成損害,需要在封閉裝置中進(jìn)行清洗。
(5)由于臭氧是通過(guò)氧化反應(yīng)去除污垢的,所以容易被氧化的表面不能用這種方法處理。
產(chǎn)品描述:
采用110瓦直管光清洗燈 12燈設(shè)計(jì)。